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化工儀器網(wǎng)>產(chǎn)品展廳>化工機械設備>制藥機械>原料藥設備及機械>CMSD2000 氫氧化鋁混懸液膠體磨

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CMSD2000 氫氧化鋁混懸液膠體磨

參考價 238567
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協(xié)議為準
  • 公司名稱 上海依肯機械設備有限公司
  • 品牌
  • 型號 CMSD2000
  • 產(chǎn)地 陳春公路700號
  • 廠商性質(zhì) 生產(chǎn)廠家
  • 更新時間 2016/3/30 7:59:36
  • 訪問次數(shù) 518

聯(lián)系我們時請說明是化工儀器網(wǎng)上看到的信息,謝謝!


~ 上海依肯機械設備有限公司是一家中德合作經(jīng)營企業(yè),依肯通過引進德國IKN技術和科學管理模式,形成了完整的研發(fā)、制造及營銷體系。她保持與的混合乳化技術同步,同時擁有xx的技術研究人才和生產(chǎn)能力,為中國及提供多元化的產(chǎn)品及技術服務。她已經(jīng)發(fā)展成為中國流體高剪切混合設備行業(yè)的XX者。
      公司主要研發(fā),生產(chǎn)制造,銷售流體領域的幾大系列:一乳化機(乳化機,高剪切乳化機,管線式乳化機)二 均質(zhì)機,三 分散機,四 膠體磨,五 乳化泵,六 研磨機,七濕法粉碎機,九成套設備等系列。為混合、分散、均質(zhì)、懸浮、乳化、濕磨、粉液混合等領域提供高品質(zhì)的解決方案,設備加工材料細度可達微納米級別。依肯公司作為國內(nèi)的XX供應商,憑借著對廣大客戶要求的深入了解,為客戶解決流程工藝中的難題,混合技術,乳化均質(zhì),粉液混合技術和合理的配置方案,確保設備運行穩(wěn)定的可靠性。她已廣泛應用于石油、石化、化工、食品、生物制藥、核工業(yè)、精細化工等領域,并成功為x'x工程配套,部分產(chǎn)品返銷國外,取得了顯著的經(jīng)濟效益和社會效益。

“追求*品質(zhì)”是依肯公司是的宗旨。“成功源自創(chuàng)新”亦是公司全體員工一直努力追隨的目標。上海依肯機械設備有限公司將以求實、創(chuàng)新的企業(yè)精神走向市場。在您在關注和支持下、她將以不斷發(fā)展壯大,在分散乳化均質(zhì)粉碎設備制造的廣闊天地中散發(fā)出*的魅力。

 

 

乳化機,膠體磨,分散機,粉液混合機,納米乳化機,納米分散機,納米研磨機,納米粉碎機,高速膠體磨

氫氧化鋁混懸液膠體磨是基于轉(zhuǎn)子-定子原理。IKN濕磨機的輸入剪切能大,可實現(xiàn)10 µm及以下粒度。IKN濕磨機能夠處理寬粘度范圍的產(chǎn)品。氫氧化鋁在醫(yī)療上,常用于治療胃酸過多,胃酸的主要成分是鹽酸,利用氫氧化鋁與胃酸反應生成無毒無害的氯化鋁排出體外。反應方程式為:Al(OH)3+3HCl==AlCl3+3H2O

 

氫氧化鋁氫氧化鋁(Aluminum hydroxide),化學式Al(OH)3,是氫氧化物。氫氧化鋁既能與反應生成鹽和又能與反應生成鹽和水,因此也是一種兩性氫氧化物。化學式Al(OH)3,是鋁的氫氧化物。是一種堿,由于又顯一定的酸性,所以又可稱之為鋁酸(H3AlO3)。但實際與堿反應時生成的是四羥基合鋁酸鹽([Al(OH)4]-)。因此通常在把它視作一水合偏鋁酸(HAlO2·H2O),按用途分為工業(yè)級和醫(yī)藥級兩種。

氫氧化鋁混懸液膠體磨的

混懸劑(suspensions)系指難溶性固體藥物以微粒狀態(tài)分散于分散介質(zhì)中形成的非均勻分散的液體藥劑。分散相微粒的大小一般在0.5~10μm之間,小的微粒可為0.1μm,大的微粒可達50μm或更大。混懸劑的分散介質(zhì)多為水,也有用植物油。混懸劑屬于熱力學不穩(wěn)定的粗分散體系。

  藥物可考慮制成混懸劑的情況為:不溶性藥物需制成液體藥劑應用;藥物的劑量超過了溶解度而不能制成溶液劑;兩種溶液混合由于藥物的溶解度降低而析出固體藥物或產(chǎn)生難溶性化合物;與溶液劑比較,為了使藥物緩釋*。與固體劑型比較,為了加快藥物的吸收速度,提高藥物的生物利用度。固體劑型胃局部刺激性大的情況,可考慮用混懸劑。但對于毒劇藥物或劑量太小的藥物,為了保證用藥的安全性。則不宜制成混懸劑應用。 

的分雖效果

 

影響研磨粉碎結(jié)果的因素有以下幾點

 

2 膠體磨磨頭頭的剪切速率  (越大,效果越好)

3 膠體磨頭的齒形結(jié)構(分為初齒,中齒,細齒,超細齒,約細齒效果越好)

4  物料在研磨腔體的停留時間,研磨粉碎時間(可以看作同等的電機,流量越小,效果越好)

5 循環(huán)次數(shù)(越多,效果越好,到設備的期限,就不能再好)

 

線速度的計算

剪切速率的定義是兩表面之間液體層的相對速率。

剪切速率 (s-1) =      v  速率 (m/s)   
              g 定-轉(zhuǎn)子 間距 (m)

由上可知,剪切速率取決于以下因素:

轉(zhuǎn)子的線速率

在這種請況下兩表面間的距離為轉(zhuǎn)子-定子 間距。
IKN 定-轉(zhuǎn)子的間距范圍為 0.2 ~ 0.4 mm  

 

速率V=  3.14 X  D(轉(zhuǎn)子直徑)X 轉(zhuǎn)速 RPM  /   60

超高膠體磨是由電動機通過皮帶傳動帶動轉(zhuǎn)齒(或稱為轉(zhuǎn)子)與相配的定齒(或稱為定子)作相對的高速旋轉(zhuǎn),被加工物料通過本身的重量或外部壓力(可由泵產(chǎn)生)加壓產(chǎn)生向下的螺旋沖擊力,透過膠體磨定、轉(zhuǎn)齒之間的間隙(間隙可調(diào))時受到強大的剪切力、摩擦力、高頻振動等物理作用,使物料被有效地乳化、分散和粉碎,達到物料超細粉碎及乳化的效果。
        

       根據(jù)一些行業(yè)的特殊要求, IKN 在CM2000系列膠體磨的基礎上又開發(fā)了一款CMS2000高速膠體磨,轉(zhuǎn)子的線速度可以達到40M/S。研磨分散效果更好,研磨粒徑分布更小。

       超高速膠體磨的細化作用一般來說要強于均質(zhì)機,但它對物料的適應能力較強(如高粘度、大顆粒),所以在很多場合下,它用于高粘度的場合。在固態(tài)物質(zhì)較多時也常常使用膠體磨進行細化。 

       CMS2000的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

     三級錯齒結(jié)構的研磨轉(zhuǎn)子,配合精密的定子腔。此款高速膠體磨比普通的臥式膠體磨的速度達到3倍以上,zui小的轉(zhuǎn)速可以達到14000RPM。所以可以達到更好的分散濕磨效果。

 

 

 

 



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