藍星宇協(xié)同日本SEN特殊光源集團致力于LCD,PCB,OLED,PDP,IC,光學,水處理,醫(yī)療等行業(yè)特殊光源研發(fā),生產(chǎn)與銷售,我司是日本SEN特殊光源集團中國*代理, 全面負責SEN UV光源/設備,配件及其光測量儀等在中國市場的銷售與服務。業(yè)務范圍已遍及全國各地(含HK), 在香港, 深圳已設立公司, 華東及華北分公司正在規(guī)化中。光源產(chǎn)品已獲得國內(nèi)外眾多高科技公司及世界500強企業(yè)認可采用。
日本SEN公司創(chuàng)建于1966年, 已有40余年專業(yè)歷史, 是UV領域?qū)＜摇Ｆ?品質(zhì)，高性價比的各類UV產(chǎn)品，在LCD,PCB,OLED,PCB,IC,光學品,水處理等行業(yè)享有很高的聲譽。
“以人為本，感恩共贏”是我們的經(jīng)營理念，同時我們憑著穩(wěn)定的品質(zhì)，準時的交期，合適的價格，優(yōu)秀的服務以及強有力的市場開拓，贏得了越來越多的*客戶認可,同時使得我司有幸與SEN，ORC等世界各地生產(chǎn)廠商不斷加強良好的合作關系。
一.主營產(chǎn)品Product Catalog:
A.特殊光源-UV燈/曝光燈Specialty Lamp
紫外光清洗燈, UV固化燈, 曝光燈, 點光源燈, 殺菌消毒燈, 醫(yī)療燈,金鹵燈, 臭氧燈, 曬版燈, 鹵鎢燈, 紅外線燈, 特殊熒光燈等。
B.光源設備Lights Equipments
紫外光清洗機, UV固化機, 點光源機, 曝光機, 曬版機，水凈化機,環(huán)境/醫(yī)療殺菌消毒裝置，光化學反應裝置等。
C.UV儀器/耗材/配件
UV能量表, UV照度計, UV光譜計, 麥拉, 水套, 離子罐, 曝光尺, 真空泵等。
D. 德國DIENER等離子清洗機, 德國OPTOSOL太陽能儀器
二.客戶分布Application Fields：
液晶，OLED，電路板，IC半導體，醫(yī)療，電子器件，塑膠，涂料, 印刷包裝，環(huán)境科學,鏡頭,光纖/光盤/光頭, 制鞋，木業(yè)，化工，飲料，水處理等。
三.合作伙伴Partner:
SEN,DIENER,OPTOSOL,ORC,USHIO,AMBA,YUMEX,OSRAM,PHILIPS,EYE,HAMAMATSU,C,SUN,NAIS,PRIMARC,APHA-CURE,THEIMER,TOSHIBA,MORITEX,LESCO,DYMAX,HOYA-SCHOT,FUJI,LUXTEL,HITACHI,NIKON,GE,BLV…
紫外線UV光清洗燈SEN全系列燈管型號:1.冷陰極低壓汞燈SP SL系列,低能低壓汞燈UVL系列,標準低壓汞燈SUV系列,高能/超高能低壓汞燈EUV系列; 2.高壓汞燈HL系列;3.金鹵燈ML系列; 4.臭氧燈SL系列.
SEN全系列燈管型號(All Types of Lamp Model)
1.低壓汞燈low-pressure mercury lamp
A. 冷陰極燈Cold-cathode Lamp
SP3-2, SP5-2, SP6-2, SL5DH, SL5UH, SL10UH2...
B.低能低壓汞燈Low-power low-pressure mercury lamp
UVL6D, UVL6UH2, UVL8D, UVL10D, UVL15D, UVL20D, UVL20U, UVL20P…
C.標準低壓汞燈Standard low-pressure mercury lamp
SUV40D, SUV40U, SUV40G, SUV70D, SUV90D, SUV90U, SUV90US-43, MSW-90,
SUV110D, SUV110W, SUV110G, SUV110P, SUV110NS-10, SUV200US-41,
SUV90US-40, SUV110US, SUV110GS-36, SUV200WS-18, SUV90US-43, MSW-90…
D. 高能/超高能低壓汞燈High-power/ultra-high power low-pressure mercury lamp
EUV200D, EUV200U, EUV200N, EUV200W, EUV200P, EUV250D, EUV250N, EUV250N
EUV250W, EUV300D, EUV300U,EUV300N, EUV300W, EUV400D, EUV400U, EUV400N
EUV400W, FUV400U, EUV200DS-45, EUV200US-55, EUV200US-77…
2.高壓汞燈High-pressure Mercury Lamp
HL100C, HL100G, HL100Q, HL400B, HL400J, HL400D, HL450B, HL450J, HL1000D,
HL1000J, HL1000W, HL2000D, HL2000J, HL4000D, HL5600D
3. 金鹵燈Metal Hydride Lamp
ML1500DH, ML3000DH
4.臭氧燈Ozone Lamp SL5DH, SL10UH
一、紫外光清洗的工作原理：
光清洗技術是利用有機化合物的光敏氧化作用達到去除黏附在材料表面上的有機物質(zhì)，經(jīng)過光清洗后的材料表面可以達到"原子清潔度"。
更詳細的講：UV光源發(fā)射波長為185nm和254nm的光波，具有很高的能量,當這些光子作用到被清洗物體表面時,大多數(shù)碳氫化合物對185nm波長的紫外光具有較強的吸收能力,吸收185nm波長的紫外光的能量后分解成離子、游離態(tài)原子、受激分子和中子。空氣中的氧氣分子在吸收了185nm波長的紫外光后也會產(chǎn)生臭氧和原子氧。臭氧對254nm波長的紫外光同樣具有強烈的吸收作用,臭氧又分解為原子氧和氧氣。其中原子氧是極活潑的,在它作用下,物體表面上的碳和碳氫化合物的分解物可化合成可揮發(fā)的氣體：二氧化碳和水蒸氣等逸出表面，從而*清除了黏附在物體表面上的碳和有機污染物。
二、光清洗的特點light clean feature：
1、可在空氣中進行并且在清洗后不必進行干燥。
2、可*清除物體表面的碳和有機污染物。
3、無溶劑揮發(fā)及廢棄溶劑的處理問題。
4、保證產(chǎn)品的高可靠性和高成品率。
5、產(chǎn)品表面清洗處理的均勻度*。
6、由于光清洗是通過光敏、氧化反應去除物體表面的碳和有機化合物，所以容易發(fā)生氧化的表面不宜用光清洗方法，只適對表面污垢清洗、不適對污垢量較多，無機類污垢清洗。
三、光清洗的技術應用范圍：
主要在液晶顯示器件、半導體硅晶片、集成電路、高精度印制電路板、光學器件、石英晶體、密封技術、帶氧化膜的金屬材料等生產(chǎn)過程中采用光清洗方法Z為合適。
主要材料：Ito玻璃、光學玻璃、鉻板、掩膜板、拋光石英晶體、硅晶片和帶有氧化膜的金屬等進行精密清洗處理。
可以去除污垢：有機性污垢、人體皮脂、化妝品油脂、樹脂添加劑及聚酰亞胺、石蠟、松香、潤滑油、殘余的光刻膠等。
此UV光源在LCD工藝中又具有UV改質(zhì)(紫外光表面質(zhì)變)的特點，目前在液晶顯示器STN的生產(chǎn)過程中，主要是用在膜處理技術上，對于改善膜與膜之間的密接是非常有效的，如ITO膜與感光膠膜層，TOP涂層與PI涂層等等。另在研究部門又可用來UV改性塑料材料產(chǎn)品，用于納米技術研究，產(chǎn)品經(jīng)此UV光照射發(fā)生化學反應，使產(chǎn)品表面性質(zhì)改變。STN-LCD、彩色濾光片及OLED的制作過程中，有些制程設備相當雷同，差別在于制造工藝要求的不同。
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