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日立分析儀器(上海)有限公司

化工儀器網>產品展廳>分析儀器>光譜>微波等離子體光譜儀(MPT、MIP)>HK-8100 合金材料分析ICP光譜儀

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HK-8100 合金材料分析ICP光譜儀

參考價 323000
訂貨量 ≥1
具體成交價以合同協議為準

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     北京華科易通分析儀器有限公司是電感耦合等離子體單道掃描光譜儀的專業制造廠商,是集科研、生產、銷售、技術服務于一體的技企業。HK-8100型電感耦合等離子體發射光譜儀,是我公司在傳統電感耦合等離子體發射光譜儀技術的基礎上,吸收較早技術成果研究開發精度、靈敏度和穩定性的電感耦合等離子體發射光譜儀。公司以其多年從事這項科研技術隊伍的真誠與共、協同發展不斷創新的團隊精神為后盾,以其豐富的工作經驗和扎實的專業知識完善熱情的服務為保障,為廣大用戶提供解決方案。

    HK-8100作為大型精密無機分析儀器,廣泛應用于稀土分析、貴金屬分析、有色金屬、合金材料、電子產品、醫藥衛生、冶金、地質、土壤、石油、化工、商檢、環保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等,從超微量到常量的定性或定量分析。它是集光、機、電、計算機、分析技術于一體的技術產品,具有測試速度快、測量范圍寬、分析結果準確可靠等特點。由于采用了計算機技術,儀器的智能化、屏幕顯示的圖、文及數據的采集、處理等都達到了目前*水平,是諸多行業理想的分析儀器。

ICP,電感耦合等離子發射光譜,光譜儀

應用領域 環保,化工,石油,地礦,能源

北京華科易通分析儀器有限公司,是電感耦合等離子體發射光譜儀的專業制造廠商。它是集科研、生產、銷售、技術服務于一體的科技企業。HK-8100合金材料分析ICP光譜儀,是我公司在現有技術的基礎上,吸收新技術成果研制開發的新產品。

       合金材料分析ICP光譜儀作為一種大型精密無機分析儀器,廣泛應用于稀土分析、貴金屬分析、合金材料、電子產品、醫藥衛生、冶金、地質、石油、化工等行業,以及商檢、環保等部門和釹鐵硼、硅、硅鐵、鎢、鉬等行業,出色地完成從超微量到常量的定性或定量分析。

       是集光、機、電、計算機、分析技術于一體的技術產品,具有測試速度快、測量范圍寬、分析結果準確、可靠等特點。由于采用了計算機技術,儀器實現了高度智能化,從分析處理到數據采集等環節都達到了目前*水平,是一種十分理想的分析儀器。

公司以一批多年積累的技術成果和實力雄厚的科研隊伍為后盾,以其豐富的工作經驗和和完善熱情的服務為保障,竭誠為社會提供高精度、高靈敏度和高穩定性的等離子體發射光譜儀產品。

1.主要特點

  • 優良的光學系統,良好的控制系統:保證定位準確,信背比優良;                                            
  • 采用進口的關鍵部件:確保儀器的精確度和靈敏度;
  • 極小的基體效應:99%的試樣不用分離基體;
  • 測量范圍寬:超微量到常量的分析;
  • 良好的測量精度:相對標準偏差RSD≤1.50%;
  • 穩定性:相對標準偏差RSD≤2.00% ;
  • 分析速度快:每分鐘元素順序掃描zui快達25個以上;
  • 分析元素之多:可分析72種金屬元素和部分非金屬元素;
  • 可做定性或定量分析;
  • 便捷的分析軟件:基于Windows XP平臺下的第三代中文版或英文版操作軟件,使操作更加簡便容易,軟件無需安裝可直接使用,數據處理系統提供多種功能,對輸出數據可任意選擇打印。

2.儀器組成及工作原理

      HK-8100型等離子體發射光譜儀,是單、多元素順序測量的分析測試儀器。該儀器由掃描分光器、射頻發生器、試樣引入系統、光電轉換、控制系統、數據處理系統、分析操作軟件組成。

等離子體是在三重同心石英炬管中產生。炬管內分別以切向通入氬氣,炬管上部繞有紫銅負載線圈(內通冷卻水)當高頻發生器產生的高頻電流(工作頻率40.68MHz功率1kW左右)通過線圈時,其周圍產生交變磁場,使少量氬氣電離產生電子和離子,在磁場作用下加速運動與其它中性原子碰撞,產生更多的電子和離子,在炬管內形成渦流,在電火花作用下形成等離子炬(即等離子體),這種等離子體溫度可達8000K以上。待測水溶液經噴霧器形成氣溶膠進入石英炬管中心通道。原子受到外界能量的作用下,使原子電離,即處于激發態的原子十分不穩定。從較高能級躍遷到基態,將釋放出能量。這種能量是以一定波長的電磁波的形式輻射出去。不同元素產生不同的特征光譜。這些特征光譜通過透鏡射到分光器中的光柵上,分光后的待測元素特征譜線光強,通過計算由步進電機轉動光柵傳動機構,準確定位于出口狹縫處,光電倍增管將該譜線光強轉變為光電流,再經電路處理和V/F轉換后,由計算機進行數據處理,zui后由打印機打出分析結果。

3.主要技術指標

掃描范圍 :光柵3600條刻線/mm,掃描范圍(190~500)nm

           光柵2400條刻線/mm,掃描范圍(190~800)nm

波長示值誤差:±0.03nm,重復性≤0.005nm。

zui小光譜帶寬:Mn 257.610nm,譜線峰半高寬≤0.008nm。

重復性:相對標準偏差 RSD≤1.50%

穩定性:相對標準偏差 RSD≤2.00%

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