- 產(chǎn) 地:
- 暫無(wú)
- 所在地區(qū):
- 廣東深圳市
二手SEN,二手TEM透射電子顯微鏡的成像原理可分為三種情況:
吸收像:當(dāng)電子射到質(zhì)量、密度大的樣品時(shí),主要的成相作用是散射作用。樣品上質(zhì)量厚度大的地方對(duì)電子的散射角大,通過(guò)的電子較少,像的亮度較暗。早期的透射電子顯微鏡都是基于這種原理TEM透射電鏡。 衍射像:電子束被樣品衍射后,樣品不同位置的衍射波振幅分布對(duì)應(yīng)于樣品中晶體各部分不同的衍射能力,當(dāng)出現(xiàn)晶體缺陷時(shí),缺陷部分的衍射能力與完整區(qū)域不同,從而使衍射波的振幅分布不均勻,反映出晶體缺陷的分布。 相位像:當(dāng)樣品薄至100A以下時(shí),電子可以穿過(guò)樣品,波的振幅變化可以忽略,成像來(lái)自于相位的變化。
二手SEN,二手TEM組件介紹:
電子槍:發(fā)射電子,由陰極、柵極、陽(yáng)極組成。陰極管發(fā)射的電子通過(guò)柵極上的小孔形成射線(xiàn)束,經(jīng)陽(yáng)極電壓加速后射向聚光鏡,起到對(duì)電子束加速、加壓的作用。 聚光鏡:將電子束聚集,可用于控制照明強(qiáng)度和孔徑角。 樣品室:放置待觀察的樣品,并裝有傾轉(zhuǎn)臺(tái),用以改變?cè)嚇拥慕嵌龋€有裝配加熱、冷卻等設(shè)備。 物鏡:為放大率很高的短距透鏡,作用是放大電子像。物鏡是決定透射電子顯微鏡分辨能力和成像質(zhì)量的關(guān)鍵。 中間鏡:為可變倍的弱透鏡,作用是對(duì)電子像進(jìn)行二次放大。通過(guò)調(diào)節(jié)中間鏡的電流,可選擇物體的像或電子衍射圖來(lái)進(jìn)行放大。 透射鏡:為高倍的強(qiáng)透鏡,用來(lái)放大中間像后在熒光屏上成像。 此外還有二級(jí)真空泵來(lái)對(duì)樣品室抽真空、照相裝置用以記錄影像。
應(yīng)用
透射電子顯微鏡在材料科學(xué)、生物學(xué)上應(yīng)用較多。由于電子易散射或被物體吸收,故穿透力低,樣品的密度、厚度等都會(huì)影響到后的成像質(zhì)量,必須制備更薄的超薄切片,通常為50~100nm。所以用透射電子顯微鏡觀察時(shí)的樣品需要處理得很薄。常用的方法有:超薄切片法、冷凍超薄切片法、冷凍蝕刻法、冷凍斷裂法等。對(duì)于液體樣品,通常是掛預(yù)處理過(guò)的銅網(wǎng)上進(jìn)行觀察。
特點(diǎn)
以電子束作光源,電磁場(chǎng)作透鏡。電子束波長(zhǎng)與加速電壓(通常50~120KV)成反比。
由電子照明系統(tǒng)、電磁透鏡成像系統(tǒng)、真空系統(tǒng)、記錄系統(tǒng)、電源系統(tǒng)等5部分構(gòu)成。
分辨力0.2nm,放大倍數(shù)可達(dá)百萬(wàn)倍。
TEM分析技術(shù)是以波長(zhǎng)極短的電子束作照明源,用電磁透鏡聚焦成像的一種高分辨率(1nm)、高放大倍數(shù)的電子光學(xué)分析技術(shù);
用電鏡(包括TEM)進(jìn)行樣品分析時(shí),通常有兩個(gè)目的:一個(gè)是獲得高倍放大倍數(shù)的電子圖像,另一個(gè)是得到電子衍射花樣;
TEM常用于研究納米材料的結(jié)晶情況,觀察納米粒子的形貌、分散情況及測(cè)量和評(píng)估納米粒子的粒徑。是常用的納米復(fù)合材料微觀結(jié)構(gòu)的表征技術(shù)之一。