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【化工儀器網 展會報道】2023年3月1日-3月3日，第十三屆中國國際納米技術產業博覽會(以下簡稱納博會)在蘇州國際博覽中心順利舉行。本次納博會首次增擴20%展覽面積，展覽總面積達22000平方米，匯集了300多位業內知名專家，2000多家產業機構。

納博會于2010年首度推出，迄今已成功舉辦十二屆，為納米產業提供了產品展示、市場推廣、新品發布、合作交流的重要平臺，有效推動了納米技術應用推廣與國際合作。

此次第十三屆納博會，重點聚焦MEMS制造、柔性印刷電子、納米大健康、納米壓印、半導體器件加工、分析測試、第三代半導體、纖維材料、凝膠材料、磁珠材料等技術應用方向，縱向覆蓋納米技術產業鏈條，為企業提供技術展示、產品推廣的平臺，為客戶提供一個與企業面對面洽談交流的機會。

在本次第十三屆納博會現場，除了精彩的學術講座以外，還匯聚了不少業內優秀企業。迪合光電科技(上海)有限公司(以下簡稱“迪合光電”)也攜帶了多款優良產品亮相本次納米技術領域盛會，充分展現企業風采。

迪合光電是LEICA光學儀器在江浙滬工業區域的徠卡顯微鏡授權一級代理商，以經營、開發、應用、服務于一體的上海自貿區企業，致力于為工業，電子制造業和科研領域用戶提供顯微光學檢測和自動影像測量、計量、分析及過程控制等解決方案。迪合光電始終秉承“誠信、服務、專業、創新”的經營理念，擁有高素質的專業人員為客戶提供優質的售前、售中、售后服務，并可應客戶要求開發或共同開發其他應用光學產品，為廣大的國內生產和科研用戶提供與同步的專業服務，更好地創造產品價值和顧客價值。

全能型 Wafer Loader + 德國光學 Leica Microscope DM8000M

全能型 Wafer Loader + 德國光學 Leica Microscope DM8000M

該產品為chao強的半導體晶圓裝載機系列，能夠將直徑為6英寸(150mm)和8英寸(200mm)的晶圓轉移到LEICA DM8000M顯微鏡上。支持半導體晶圓前圖案側、后周邊和中心區域檢測。可自動或手動設置晶圓旋轉速度和傾斜角度。

該款產品擁有高效、安全的全自動晶圓傳送，并且具備大尺寸觸控屏幕，中文/英文操作界面，操作簡單、易學易用。該系統可以兼容第一~第三代材料，包括不透明材質、半透明材質以及全透明材質的晶圓。該系統可以升級成為全自動檢測系統(可以選配AOI/AI智能檢測軟件)，可以針對特殊工藝晶圓、特殊標記Mark、雙平邊晶圓等進行相應的擴展或者改造，可以選配SMIF系統、SECS/GEM。

Leica DVM6 徠卡視頻顯微鏡

Leica DVM6 徠卡視頻顯微鏡

DVM6數碼顯微鏡是一款多樣化的解決方案，可幫助實驗者在研究樣本時獲得深入的認識，由于操作方便，實驗者可以專注于自己的工作，同時通過可重現的成像條件提高結果的可靠性。DVM6數碼顯微鏡可以輕松快捷地從宏觀轉向微觀，并且能夠調節低倍、中倍、高倍物鏡。

DVM6傾斜功能從-60°到+60°的不同視角觀察樣本，能夠觀察到難以發現的細節，只需旋轉和移動載物臺，即可到達70毫米x50毫米行程范圍內的任何一點，從不同角度探索樣本。即使在傾斜過程中，樣本也始終保持對焦，因為傾斜軸與焦點對齊。DVM6還能夠通過可重現的成像條件提高結果的可靠性。

徠卡Emspira 3數碼顯微鏡

徠卡Emspira 3數碼顯微鏡

Emspira 3在同一個系統中結合了執行全面的目視檢查所需的所有功能，包括比較、測量和文檔共享。它能夠檢查不同的樣本，快速達到高要求、高通量的目標。同時，Emspira 3有助高效做出決定，讓實驗者獲益于文檔的安全存儲和輕松分享——無論以獨立模式還是與計算機相連進行檢查。Emspira 3設計堅固，同樣可以讓實驗者在生產和實驗室環境中充滿信心地專注于自身的檢查工作。

Emspira 3可以完成復雜的目視檢查任務，無需使用計算機，而且還能減少工作中的混亂。其中集成的屏幕菜單式調節方式(OSD)可提供獨立運行的直觀工具。Emspira 3還使用了條形碼，使得產品中的掃描儀能夠快速記錄和識別樣本。并且通過自動記錄所采集圖像的識別碼，始終可以從圖像追溯到樣本。