今日焦點
查看更多Pluto30是專為研發而設計的全功能等離子體系統,13.56MHz射頻發生器和自動匹配網絡電源在整個過程區域產生均勻的等離子體。Pluto30的真空腔可支持多達7個可調節樣品架,以容納各種形狀尺寸的樣品。Pluto30具有多種電極設置,可配置成RIE和PECVD模式,從而擴大了該系統的應用范圍,提供給用戶良好的靈活性。
復旦大學高分子系老師希望用該設備進行等離子體化學反應的實驗,即利用設備產生的等離子體在真空泵和氣體閥門關閉的情況下與真空腔內的物質進行化學反應,然后獲取化學反應后產生的新物質。此項實驗,對等離子體設備要求有精準的控制,對真空腔的保壓能力有很高的要求??蛻艚涍^一番調研后,最終選擇了我司Pluto系列的Pluto30等離子表面處理系統。
應用領域:
表面活化
提高表面能量以提高材料粘合性:預壓模粘合;預焊線粘合
增強表面膠體流動性:預成型;預倒裝芯片下溢
表面粗糙度和蝕刻
降低表面應力,改善表面粘結性
灰化和表面清潔
Plasma等離子蝕刻(配備RIE配置)
電介質/III-IV材料
納米涂層(配備液體前體輸送裝置)
耐水納米涂層:印刷電路板表面處理
防腐納米涂層:醫療器械,醫療植入物
免責聲明
- 凡本網注明“來源:化工儀器網”的所有作品,均為浙江興旺寶明通網絡有限公司-化工儀器網合法擁有版權或有權使用的作品,未經本網授權不得轉載、摘編或利用其他方式使用上述作品。已經本網授權使用作品的,應在授權范圍內使用,并注明“來源:化工儀器網”。違反上述聲明者,本網將追究其相關法律責任。
- 本網轉載并注明自其他來源(非化工儀器網)的作品,目的在于傳遞更多信息,并不代表本網贊同其觀點和對其真實性負責,不承擔此類作品侵權行為的直接責任及連帶責任。其他媒體、網站或個人從本網轉載時,必須保留本網注明的作品第一來源,并自負版權等法律責任。
- 如涉及作品內容、版權等問題,請在作品發表之日起一周內與本網聯系,否則視為放棄相關權利。